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Excimer UVO3 清潔重整器 6 英寸兼容桌面型號(hào)

發(fā)布時(shí)間:2024-05-13 點(diǎn)擊量:262

Excimer UVO3 清潔重整器 6 英寸兼容桌面型號(hào)

準(zhǔn)分子UVO3系統(tǒng)桌面型

臺(tái)式型號(hào):E172 -152

準(zhǔn)分子UVO3

應(yīng)用實(shí)例

  • 電子顯微鏡樣品的預(yù)處理

  • 清潔樣品和夾具

  • 提高樣品表面的潤(rùn)濕性、親水性和親和力

  • 提高接合面的附著力

  • 表面改性

  • 清洗晶圓和玻璃表面后,分解殘留有機(jī)物并清洗

  • 提高涂覆前以及涂覆晶圓和玻璃表面的均勻性

特征

  • 兼容工作尺寸 6" (152mm)

  • 載物臺(tái)傳輸準(zhǔn)分子UV掃描照射法

  • 工藝參數(shù)(照射速度、照射次數(shù)、照射距離)

  • 可選工藝參數(shù)(N2 吹掃、加熱階段)

  • 配備臭氧消減處理裝置

  • 波長(zhǎng)172nm Xe準(zhǔn)分子紫外燈 利用光化學(xué)反應(yīng)在室溫下進(jìn)行短時(shí)間精密加工

  • 市電,僅限 AC100V 電源

  • 門聯(lián)鎖設(shè)備

  • 節(jié)省空間的桌面型號(hào)

  • 不使用汞燈

準(zhǔn)分子紫外光處理的工藝原理
準(zhǔn)分子UV/臭氧清洗改性工藝

通過(guò)簡(jiǎn)單的基本設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高工藝性能。

使用準(zhǔn)分子UV光源進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng)表面處理,由于光源的特性,照射物體的溫度不易升高,使得可以對(duì)容易受熱影響的物體進(jìn)行低溫表面處理,例如薄膜材料。此外,與等離子體等物理表面處理不同,光化學(xué)反應(yīng)的特點(diǎn)是加工精度高,不易對(duì)工件造成損壞。

無(wú)需真空泵,內(nèi)置臭氧去除裝置

基本規(guī)格


產(chǎn)品名稱Excimer UVO3 清潔重整器 6 英寸兼容型號(hào)
型號(hào)E172-200
波長(zhǎng)172納米
目標(biāo)工作尺寸6"(□152 毫米)
初始照度20mW/cm2以上
連續(xù)照明操作10分鐘內(nèi)(由于輕量化和緊湊的風(fēng)冷設(shè)計(jì))
外形尺寸195(寬)x 380(深)x 480(高)毫米*
公用事業(yè)電源AC100V 50/60Hz 2A
定期更換零件廢氣臭氧分解裝置建議1年或酌情更換
定期檢查高壓電源、燈光源等1年或酌情











緊湊型準(zhǔn)分子172nm紫外光源

型號(hào):E500-172-110

通過(guò)簡(jiǎn)單的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)低成本和高性能??梢粤⒓创蜷_和關(guān)閉。風(fēng)冷準(zhǔn)分子燈是研究和開發(fā)的理想選擇。使用準(zhǔn)分子UV燈的光學(xué)表面處理非常適合薄膜材料等容易受熱影響的物體的精密低溫表面處理,因?yàn)橛捎跍?zhǔn)分子燈的特性,工件的溫度不易升高。

基本規(guī)格


產(chǎn)品名稱實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)分子172nm光源
型號(hào)E500-172-110
波長(zhǎng)172納米
光源Xe準(zhǔn)分子燈 Φ18 x 120 mm
初始照度20mW/cm2以上
連續(xù)照明操作10分鐘內(nèi)(由于輕量化和緊湊的風(fēng)冷設(shè)計(jì))
外形尺寸燈箱 W 200 x H 45 x D 80 mm 電源部分 W 250 x H 133 x D 200 mm
公用事業(yè)電源AC100V 50/60Hz 2A,去除臭氧需局部排氣
定期更換零件高壓電纜、燈外部電極,建議更換周期 3 年或酌情
定期檢查高壓電源、光源等 3年或酌情